데이터셋 상세

분말원료 고순도화를 위한 화학적 정제 기술 연구 [2006]

상세정보

자료유형 KIGAM 보고서
서명 분말원료 고순도화를 위한 화학적 정제 기술 연구 [2006]
저자 손정수
언어 KOR
청구기호 KR-2006-출연-005-2006-R
발행사항 과학기술부, 2006
초록 : IT 산업에서 필요로 하는 고순도 분말소재 원료를 제조하기 위한 화학적 분리 및 정제기술 개발을 최종 목표로 3차년도에서는 화학적 정제에 의한 금속화합물 제조기술의 확립에 관하여 연구를 수행하여 다음과 같은 결과를 얻었다. ● 전해 정련 (대상물질: Ag): -고도 전해 정련에 의한 고순도 금속제조기술개발(순도 99.99%Ag, 95% 회수), -CP/DER/ER(Chemical Precipitation/ Direct Electrochemical Reduction/ Electro-refining)으로 구성된 신공정 개발에 의해 저순도 은 원료를 사용하여 은 순도 99.999%, 회수율 99% 달성. ● 액막분리: -실관액막 분리 시스템에 의한 분리 최적화(순도 99.9%, 회수율 95% 이상), -실관막을 이용한 코발트,리튬의 분리공정설계, 모델링 및 최적화확립, ● 염화반응: -염화법에 의한 지르콘처리공정확립, -사염화탄소에 의한 지르코니아 회수(회수율 95%이상), -사염화지르콘 정제 및 사염화탄소에 의한 지르코니아 염화반응 최적공정확립
페이지 199 p.
키워드 출연, 기본연구, 고순도, 분리정제, 전해정련, 액막분리, 염화법, 금속회수, 분말원료, 화학적, 정제, 지르코니아, 지르콘, HIGH, PURITY, SEPARATION, AND, PURIFYING, ELECTROREFINING, LIQUID, MEMBRANE, CHLORINATION, METAL, RECOVERY
원문 다운로드
  • 유형별 보고서

  • 333view
  • 3download
관리자
한국지질자원연구원
등록일
2007-02-07
목록
Share
Cite as

손정수. (2006). 분말원료 고순도화를 위한 화학적 정제 기술 연구 [2006]. 과학기술부.