분말원료 고순도화를 위한 화학적 정제 기술 연구 [2006]
상세정보
| 자료유형 | KIGAM 보고서 |
|---|---|
| 서명 | 분말원료 고순도화를 위한 화학적 정제 기술 연구 [2006] |
| 저자 | 손정수 |
| 언어 | KOR |
| 청구기호 | KR-2006-출연-005-2006-R |
| 발행사항 | 과학기술부, 2006 |
| 초록 | : IT 산업에서 필요로 하는 고순도 분말소재 원료를 제조하기 위한 화학적 분리 및 정제기술 개발을 최종 목표로 3차년도에서는 화학적 정제에 의한 금속화합물 제조기술의 확립에 관하여 연구를 수행하여 다음과 같은 결과를 얻었다. ● 전해 정련 (대상물질: Ag): -고도 전해 정련에 의한 고순도 금속제조기술개발(순도 99.99%Ag, 95% 회수), -CP/DER/ER(Chemical Precipitation/ Direct Electrochemical Reduction/ Electro-refining)으로 구성된 신공정 개발에 의해 저순도 은 원료를 사용하여 은 순도 99.999%, 회수율 99% 달성. ● 액막분리: -실관액막 분리 시스템에 의한 분리 최적화(순도 99.9%, 회수율 95% 이상), -실관막을 이용한 코발트,리튬의 분리공정설계, 모델링 및 최적화확립, ● 염화반응: -염화법에 의한 지르콘처리공정확립, -사염화탄소에 의한 지르코니아 회수(회수율 95%이상), -사염화지르콘 정제 및 사염화탄소에 의한 지르코니아 염화반응 최적공정확립 |
| 페이지 | 199 p. |
| 키워드 | 출연, 기본연구, 고순도, 분리정제, 전해정련, 액막분리, 염화법, 금속회수, 분말원료, 화학적, 정제, 지르코니아, 지르콘, HIGH, PURITY, SEPARATION, AND, PURIFYING, ELECTROREFINING, LIQUID, MEMBRANE, CHLORINATION, METAL, RECOVERY |
| 원문 | 다운로드 |
유형별 보고서
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- 관리자
- 한국지질자원연구원
- 등록일
- 2007-02-07
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손정수. (2006). 분말원료 고순도화를 위한 화학적 정제 기술 연구 [2006]. 과학기술부.
