반도체용 절단 슬러지로부터 고순도 실리콘 화합물 및 실리카 나노분말 제조 기술개발
상세정보
| 자료유형 | KIGAM 보고서 |
|---|---|
| 서명 | 반도체용 절단 슬러지로부터 고순도 실리콘 화합물 및 실리카 나노분말 제조 기술개발 |
| 저자 | 장희동 |
| 언어 | KOR |
| 청구기호 | KR-2006-국가-008-2006-R |
| 발행사항 | 과학기술부 : 환경부, 2006 |
| 초록 | : ● 반도체용 실리콘 잉곳 절단 슬러지로부터 고순도 실리콘 화합물 및 실리카 나노분말 제조 기술을 개발하였음: -액상공정을 이용한 실리콘 화합물 제조 Bench 규모 장치 설치, 운전 및 최적 제조 공정 확립, -분별증류공정에 의한 실리콘 화합물의 고순도화 기술 확립, -기상공정을 이용한 실리카 나노분말 제조 Bench 규모 장치 설치, 운전 및 최적 제조 공정 확립, -실리카 나노분말의 표면 특성제어를 위한 표면 처리 기술 확립. ● 실리콘 슬러지를 이용한 환경소재용 다공질 세라믹 나노복합소재(Si₃N₄-SiC) 제조 기술을 개발하였음: -다공성 세라믹인 Si₃N₄기 복합 재료의 기공크기 제어 기술 확립, -다공성 세라믹인 Si₃N₄기 복합 재료의 기공 내부 형상제어 기술 확립 및 특성평가 |
| 페이지 | 154 p. |
| 키워드 | 국가, 페실리콘, 실리콘화합물, 실리카, 나노분말, 반도체용, 절단, 슬러지, WASTE, SLUDGE, SILICON, COMPOUND, SILICA, NANOPARTICLES |
| 원문 | 다운로드 |
유형별 보고서
- 359view
- 0download
- 관리자
- 한국지질자원연구원
- 등록일
- 2006-09-25
Share
Cite as
장희동. (2006). 반도체용 절단 슬러지로부터 고순도 실리콘 화합물 및 실리카 나노분말 제조 기술개발. 과학기술부 : 환경부.
