규석 초미분체 제조기술
상세정보
| 자료유형 | KIGAM 보고서 |
|---|---|
| 서명 | 규석 초미분체 제조기술 |
| 저자 | 최상근 |
| 언어 | KOR |
| 청구기호 | KR-2002-R-12-2002-R |
| 발행사항 | 산업자원부, 2002 |
| 초록 | : 화학처리 및 열처리 공정이 아닌 단순 물리적인 방법으로 초미분쇄 하면 평균 입도 1.0㎛ 이하의 규석 초미립 분말을 제조할 수 있다. 투입되는 평균 입도가 3㎛ 전후일 경우에는 약 1시간, 평균 입도가 11㎛ 전후일 경우에는 약 2시간 초미분쇄 하면 개발 목표인 sub-micron 크기의 규석 초미립 분말이 제조된다. 물론 보다 큰 입자를 투입하면 초미립화는 가능하나 장치 및 첨가 미디어 등의 마모로 인하여 불순물 혼입이 증가하고, 경제적 측면에서 어려움이 있다. 본 연구 개발 결과를 요약하면 1차 년도에는 1리터 규모의 장치를 제작하여 물리적 방법에 의한 기초연구를 하였고, 2차 년도에는 8리터 크기로 분위기 조절 및 기능성 부여로 초미립화 실험을 하였으며, 3차 년도에는 2차 년도의 실험결과를 이용하여 mini-pilot plant 실험을 수행하였다. 핵심 연구 결과는 -단순 공정에 의한 물리적인 방법으로 sub-micron의 규석 초미립 분말 제조, -자체 설계 제작하여 변형 attrition mill system 개발, -기능성 부여 및 해쇄가 가능한 초미립 규석 분말 제조, -용액상태의 colloidal silica (quartz) 제조, -구형의 분말 제조로 분산성 및 유동성 지수 양호, -년간 약 2,500톤 생산 규모일 경우 1년 전후가 지나면 투자비 회수 가능 |
| 페이지 | 162 p. |
| 키워드 | 규석, 초미분체, 분말, 나노, 실리카, 분쇄 |
| 원문 | 다운로드 |
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