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The influence of N2 flow rate and substrate temperature on Ti1-xAlxN thin films | |||
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등록번호 | B0504307003 | 저널명 | The influence of N2 flow rate and substrate temperature on Ti1-xAlxN thin films |
권 | 043 | 호 | 07 |
Page | 709~712 | Year | 2008 |
제목 | The influence of N2 flow rate and substrate temperature on Ti1-xAlxN thin films | 저자명 | A. Albert Irudayaraj and S. Kalainathan |
키워드 | titanium aluminium nitride;DC magnetron sputtering;thin film;nano crystalline | URL | http://doi.org/10.1002/crat.200711122 |
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